Atmospheric chemistry of FO2 radicals. Reaction with Ch4, O3, No, No2, and Co at 295 K

J. Sehested*, K. Sehested, O. J. Nielsen, T. J. Wallington

*Corresponding author af dette arbejde
27 Citationer (Scopus)

Fingeraftryk

Dyk ned i forskningsemnerne om 'Atmospheric chemistry of FO2 radicals. Reaction with Ch4, O3, No, No2, and Co at 295 K'. Sammen danner de et unikt fingeraftryk.

Teknik og materialevidenskab

Kemiske forbindelser

Fysik og astronomi